第53章 王总工授课（1） (第2/2页)



    第三个问题，强大光源。

    一个euv光束在经过长途跋涉后，只有不到2%的光线能保留下来。为了减少成本，射线光源必须足够强，这个强度需要达到中心焦点功率达到250w。

    但是我们所使用的‘超紫外光’已经能实现最终50%的光线保留，所以这方面我们的优势也很大。

    第四个问题，独特光刻胶。

    现有的光刻胶是化学放大光刻胶，由分子链聚合而成，可以增强入射光子的效果。

    但这些材料对euv的吸收效果并不好。

    此外，由于入射光引起的放大反应在材料内部散射，光刻胶形成的图像会有轻微模糊。

    针对这个问题，‘0.1纳米光刻机’重新设计了其配套的光刻胶，使用全新光刻胶就不会存在图像模糊情况。

    第五个问题，保护掩模板。

    当前主流的液浸式光刻机中，掩模版由一层被薄膜（即护膜）保护着。

    这层薄膜距离掩模版有一点悬空的距离，像保鲜膜一样紧绷在上方，其作用在于当灰尘落在护膜上时影响聚焦而不能在晶圆上形成图案，因此不会损坏整个晶圆。

    但是现在所用的的护膜不适用于其配套的的光源，因此euv会损坏护膜。

    同时若不使用护膜则很可能是最终良品率为0，这样一来整个光刻机的设计就是失败的。

    因此能够制造出适合的护膜也将使光刻机的使用效率极大提升。

    以上就是光刻机‘光源’制造的几个重点问题，各位你们还有其他的问题吗？或者还有什么不了解的地方，我们可以相互讨论。”

    王昊哲对于“光源”的讲解已经十分透彻，并且其提供的制造图纸也给了十分详细的说明。

    “既然在座的各位在‘光源’方面没有问题，那就请各位根据我今天讲的和我所提供的制造图纸进行相应的工作。

    期待各位能取得成功。”

    ………

    王昊哲马不停蹄的赶往中科院高精度玻璃研究所。

    高精度研究所作为中科院新成立的研究所，其科研成果发展迅速。

    在其专为“0.1纳米光刻机”项目筹备的研究中心，已经开始有研究员有条不紊地忙碌着。

    见到王昊哲的到来，高精度研究所所长方中一十分高兴。

    “王总工，您怎么有空过来，既然来了就给我们讲一讲‘光刻机’制造的难点‘光学镜头’。”

    “方所长您太客气了，既然都这样说了，我就根据各位手上的制造图纸简要说一下。

    光刻机所用的波长越短，制程就越先进，但对物镜的加工精度要求就越高。

    我们此时研制的‘超紫外光’因为已经超过其他同类产品，对于物镜的要求就更加高。

    各位你们现在的责任也很大，你们的研究成果将会关系到整个项目的成功与否。

    如何才能实现我们所需要的标准呢？

    我们的解决方案就是：镜片由高精度机床铣磨成型后，还要经过小磨头抛光、磁流变抛光、离子束抛光等超精密抛光手段，才能达到所需的精度。

    之后再进行镀膜（对于duv物镜，是镀减反射膜；对于euv物镜，是镀反射多层膜）。

    超精密光学镜头加工技术的基础是计算机数控光学表面成形技术（ccos）。

    为此我同廖院长商量过，会专门成立一个计算机数控项目组。

    同时我也会提供相应技术供其进行使用。

    很多技术都是基于ccos原理的发展。”

    ……孤寂的冰山的重生后，只为带领华夏重返巅峰！

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